二维材料是近年来引起各学科广泛关注的热门课题之一。二维材料为纳米尺度和分子水平的基础科学和技术探索提供了广阔的平台，并展示了未来先进纳米光子学和电子学的各种潜在应用。化学气相沉积（CVD）技术在制备高质量、性能优异的光电二维材料方面显示出广阔的前景。然而，化学气相沉积由于其前驱体的低蒸气压，很难制备出大面积、均匀性好的连续单晶二维材料。在此之前研究人员已观察到在温和条件下向CVD工艺中添加选定的协同添加剂可形成均匀的大面积和高度结晶的单层二维材料。此外，用协同添加剂对基于二维材料的器件进行化学改性可以获得比以前报道的更好的性能。在本文中，新南威尔士大学的Lain-Jong Li、华中科技大学的Tianyou Zhai以及新加坡国立大学的Andrew T. S. Wee等比较了几种典型的协同添加剂介导的二维材料化学气相沉积生长过程及其优越的性能，为这一新兴的研究领域的未来提供了一些展望和挑战。

Jizhou Jiang, Lain-Jong Li, Tianyou Zhai, Andrew T. S. Wee et al, Synergistic additive-mediated CVD growth and chemical modification of 2D materials, Chem. Soc. Rev., 2019

DOI: 10.1039/C9CS00348G

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