新加坡国立&华南师范AM: SrFeOx外延薄膜用于高密度电阻切换存储器
坡肉先生 坡肉先生 2019-10-24

电阻切换(RS)存储器一直处于下一代非易失性存储器技术的最前沿。最近,一类新型的过渡金属氧化物(TMOs)作为RS存储器的有希望的材料已经出现,该TMOs在绝缘的褐镁矿(BM)相和导电钙钛矿(PV)相之间表现出可逆的全相转变。尽管如此,RS在这些TMOs中的微观机制仍不清楚。此外,尚未报道具有同时高密度和优异的存储性能的RS设备。新加坡国立大学Stephen J. Pennycook和华南师范大学Zhen Fan团队以SrFeOx作为模型系统,可以直接观察到PV SrFeO3纳米丝在ON状态下形成并几乎穿过BM SrFeO2.5基体延伸,而在OFF状态下破裂,这清楚地揭示了丝状RS机制。纳米丝的直径约为10 nm,首次使Au/SrFeOx/SrRuO3 RS器件的尺寸缩小到100 nm。这些纳米器件表现出良好的性能,包括高达约104的开/关比,超过105 s的保持时间以及长达107个循环的耐久力。这项研究显著提高了对表现出正相变的TMO中RS机制的理解,也证明了这些材料在高密度RS存储器中使用的潜力。

Nanoscale Topotactic Phase Transformation in SrFeOx Epitaxial Thin Films for High‐Density Resistive Switching Memory. Adv. Mater. 2019, 1903679. https://doi.org/10.1002/adma.201903679

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adma.201903679


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