任斌,王翔&谭平恒Nat. Commun.: 探索纳米级原子薄MoS2的边缘相关特性
坡肉先生 坡肉先生 2019-12-08
缺陷会引起二维过渡金属二卤化金属电子性能的急剧变化,并影响其应用。表征小缺陷并使它们的结构与性能相关仍然是一个巨大的挑战。厦门大学任斌,王翔和中科院半导体研究所的谭平恒团队通过针尖增强拉曼光谱(TERS)对薄层MoS2一维缺陷(边缘,台阶和褶皱等)进行高空间分辨的成像,获得了互相关联的AFM形貌与TERS光谱信息,系统研究了不同缺陷位的结构与电子性质。研究发现,与单层MoS2的边缘和褶皱相比,两层MoS2的边缘和一层-两层之间的台阶位具有独特的电子-声子相互作用,从而导致缺陷位附近~1.8 nm范围内材料的能带发生弯曲。缺陷位具有特殊电子能带结构以及高化学活性(如氧吸附),与完美的晶格结构相比具有较低的电子密度,从而在缺陷位和完美晶格结构之间形成10~19 nm范围的自由电子扩散长度。此外,该工作还利用对缺陷结构和电子性质敏感的拉曼振动模的谱峰位移,发展出可以区分不同类型的MoS2边缘(zigzag和armchair)的方法。该工作表明了TERS在原位、高空间分辨表征缺陷位的结构和电子性质方面具有独特的优势,可以进一步推广到其他二维材料,从而有效地指导缺陷设计和材料应用。

Probing the edge-related properties of atomically thin MoS2 at nanoscale, Nature Communications (2019)
https://www.nature.com/articles/s41467-019-13486-7
转载于厦门大学化学化工学院官网
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