AFM:华中科技大学报道半导体VS2的合成
纳米技术 纳米 2020-03-03

2D VS2材料的H晶体相的半导体性和T晶体金属相相比,有可能在半导体相关应用中展现其价值。目前,由于H晶体相的稳定性,半导体型VS2难以通过合成实验得到。华中科技大学的翟天佑等首次通过熔盐(molten salt)过程在云母基底上,经由外延生长合成了250 µm的单层H晶体相VS2

本文要点:

(1)透射电子显微镜对VS2的晶体结构进行了表征。

(2)通过H晶相的VS2热稳定性研究,发现稳定温度高达500 K。

(3)场效应晶体管器件展现H晶相的VS2的半导体性为p型半导体。

参考文献


Jianwei Su; Mingshan Wang; Yuan Li; Fakun Wang; Qiao Chen; Peng Luo; Junbo Han; Shun Wang; Huiqiao Li; Tianyou Zhai

Sub‐Millimeter‐Scale Monolayer p‐Type H‐Phase VS2,Adv. Funct. Mater. 2020, 2000240.

DOI: 10.1002/adfm.202000240

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/adfm.202000240




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