Sci Adv:高性能n型有机半导体合成和表征
纳米技术 纳米 2020-05-04


有机半导体材料是下一代有机电子学中最重要的材料,但是n型有机半导体材料的发展比p型半导体的发展更慢,这是由于n型半导体的载流子迁移率和环境稳定性较低所导致的,并且目前符合这种稳定性和足够迁移率的材料还没有结果。东京大学Toshihiro Okamoto、筑波大学、富士胶片公司、北里大学、日本国立材料科学研究所、富山大学等对n型半导体的设计进行研究,发现通过引入比较特别的含有富电子N原子的π电子体系官能团,得到了高性能n型半导体有机材料。此外,这种特别的π电子结构体系对电子学性能/结构稳定性都有帮助,并且展现了较高的载流子迁移率、较好的大气环境和热稳定性,比目前的n型有机半导体的性能更高。


本文要点:

(1)   作者制作了一种BQQDI(PDI结构类似物分子),但是相对于PDI结构,BQQDI分子的能级更合适,LUMO能级由-3.81 eV降低至-4.17 eV,改善了材料的稳定性。BQQDI材料中的富电性N 原子改善了材料中电负型位点分布,改善了材料主体结构的相互作用关系。

(2)   对比了烷基链和芳基链对分子的影响,分别将链状烷基n-C8H17和C2H4Ph芳基组装到分子中,结果显示材料具有较好的热稳定性和晶体稳定性。通过计算模拟对材料的堆叠和电荷传输性能进行分析。结果显示修饰C8H17的分子(7.97 kcal mol-1)比PDI本征分子(5.4 kcal mol-1)之间的相互作用更强,修饰PhC2H4-的分子(8.48 kcal mol-1)相互作用更高(因为苯环提供了另外的作用)。

器件的稳定性测试。对器件在长时间稳定测试结果显示,储存在大气氛围半年以上性能没有衰减。在180 ℃中测试结果显示,器件同样能够保持稳定,μe和Vth没有改变。


 

参考文献

Toshihiro Okamoto*, Shohei Kumagai, Eiji Fukuzaki, Hiroyuki Ishii, Go Watanabe, Naoyuki Niitsu, Tatsuro Annaka, Masakazu Yamagishi, Yukio Tani, Hiroki Sugiura, Tetsuya Watanabe, Shun Watanabe and Jun Takeya

Robust, high-performance n-type organic semiconductors,Science Advances 2020, 6 (18), eaaz0632

DOI:10.1126/sciadv.aaz0632

https://advances.sciencemag.org/content/6/18/eaaz0632


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