ACS Nano:1T-TaS2/2H-MoS2异质结材料器件
纳米技术 纳米 2020-05-18


金属基电子学在快速防辐射电子电路中有较大潜力,并且为相关研究者长期追求的目标,印度科学院Kausik Majumdar等对一种强电荷密度波驱动的,对电场/光学脉冲等外部刺激有反应的电阻转换材料1T-TaS2层状材料进行研究,通过构建1T-TaS2/2H-MoS2异质结结构,并探索了其负差分电阻性质,和惯常的通过载流子隧穿作用的负差分电阻作用的器件相比,这种1T-TaS2/2H-MoS2材料避免了异质结上的弱隧穿效率瓶颈,并且由此得到了超过105 nA/μm2的电流密度,这个结果比通常材料的性能高两个数量级。并且,通过对外部电压/光闸调控,光电流密度能够很好的进行调控。该制备的器件在长达1个月在大气气氛中保存过程中没有降解,说明这种结构的器件有较大的实际应用前景。

本文要点:

(1)通过在285 nm厚度的SiO2上转移多层MoS2材料,随后将多层TaS2转移到MoS2表面,并且通过旋转一定角度对材料之间的角度进行调节。通过纳米工程方法将Ni/Au电极负载到TaS2表面上。得到的器件,当电压Vg(back-gate voltage)在290 K中显示开关比达到~2.8×104,在180 K中显示开关比达到~2.4×105

(2)通过利用电作用实现调控1T-TaS2的晶相,实现了T型不对称的1T-TaS2/2H-MoS2异质结材料,通过调节电压和照射光双重方法,实现了对电流峰强度的调控。同时,MoS2提升了器件的电压,并且实现了对电流的控制。这种调控作用的机制不需要能带之间隧穿效应,同时本方法制备的器件对大气气氛稳定,并且长时间不会发生降解。



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参考文献

Mehak Mahajan, Kausik Majumdar*

Gate- and Light-Tunable Negative Differential Resistance with High Peak Current Density in 1T-TaS2/2H-MoS2 T-Junction,ACS Nano 2020

DOI:10.1021/acsnano.0c00331

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsnano.0c00331


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