Angew:高张力三芳基硼烷的合成和结构
纳米技术 纳米 2020-06-22

比利时那慕尔大学Guillaume Berionni等报道了一种具有较大张力弯折的三芳基硼烷分子的合成,该分子通过溶液相中原料四芳基硼酸氢化物和非常强的Brønsted酸HNTf2进行硼上取代基原位消除反应进行。该分子的异戊烯中心结构具有不简单的结构和反应性,作者通过N-/O-中心的Lewis碱、芳基膦类的碱对该分子的立体电子性质进行研究,在生成的Lewis加合物中展现了独特的结构、光谱学、光化学物理性质。随后,作者通过量子化学理论计算方法对该分子进行计算,计算结果显示了分子的强Lewis酸性来源于对π电子对硼的空pz轨道贡献。

本文要点:

(1)

分子合成方法。通过硼上分别被四个芳基修饰的15号分子氢硼酸作为原料分子,通过HNTf2作为反应物,在20 ℃中的CH2Cl2中反应15 min得到9号三个芳基取代的三芳基硼烷,随后在Lewis碱反应,得到Lewis加合物分子。

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参考文献

Dr. Aurélien Chardon, Arnaud Osi, Damien Mahaut, Dr. Thu‐Hong Doan, Dr. Nikolay Tumanov, Prof. Johan Wouters, Dr. Luca Fusaro, Prof. Benoît Champagne, Prof. Guillaume Berionni*

Controlled Generation of 9‐Boratriptycene by Lewis Adduct Dissociation: Accessing a Non‐Planar Triarylborane, Angew. Chem. Int. Ed. 2020

DOI:10.1002/anie.202003119

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/anie.202003119


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