长期以来，人们一直追求将石墨烯狄拉克状电子限制在人造纳米结构中，因为这有望提供一种策略来选择性地调节石墨烯的电子性质，包括带隙开放或能级量化。然而，无论是自上而下还是自下而上的方法，创建形状，尺寸和位置都具有纳米精度的限制结构仍然是一项实验挑战。此外，Klein隧穿提供了石墨烯电子的逃逸途径，限制了静电限制的效率。近日，西班牙马德里自治大学Iván Brihuega等报道了使用扫描隧道显微镜（STM）通过操控大量H原子来创建亚纳米级精度的石墨烯纳米图案。
本文要点：
1）作者可在选定的位置以预定的方向和形状构建单个石墨烯纳米结构，尺寸可从2 nm到1 µm。该方法允许随意擦除和重建图案，并且可以在不同的石墨烯基底上实施。
2）STM实验表明，这种石墨烯纳米结构可非常有效地将石墨烯Dirac准颗粒限制在0D和1D结构中。从而作者得到了能带隙高达0.8 eV的石墨烯量子点，并与量子点的线性尺寸成反比，这与无质量Dirac费米子所期望的一样。
Eva Cortés-del Río, et al. Quantum Confinement of Dirac Quasiparticles in Graphene Patterned with Sub‐Nanometer Precision. Adv. Mater., 2020
DOI: 10.1002/adma.202001119
