铃木-宫浦交叉偶联反应是催化C-C键形成的强有力的一步过程。近日，德国维尔茨堡大学Xiao-Ning Guo报道了一种用原子层沉积法合成的NiO纳米点修饰Pd/SiC催化剂，该催化剂在30 °C的空气中对芳基溴化物和氯化物与苯硼酸的铃木-宫浦偶联反应具有很高的光催化活性。

文章要点

1）Pd/SiC中的Mott-Schottky异质结可以将光生电子连续转移到Pd 纳米粒子上。同时，与Pd的E_F相比，超细NiO纳米点的最高占有分子轨道（HOMO）的能量更高，导致电子自发地从NiO转移到Pd。

2）高负电荷的Pd可以促进芳基卤化物中C-Br或C-Cl键的断裂，而SiC载体上留下的孔洞则有助于芳基硼酸或芳基硼酸酯中C-B键的断裂。

3）Pd@NiO₈₀/SiC光催化剂可用于各种卤代芳烃与PhB(OH)₂及其硼酸酯的偶联反应。

这项工作将激励进一步开发过渡金属修饰的、半导体负载的金属纳米颗粒作为光催化剂，用于光驱动的广泛有机合成。

Zhi-Feng Jiao, et al, High Photocatalytic Activity of a NiO Nanodot-decorated Pd/SiC Catalyst for the Suzuki-Miyaura Cross-coupling of Aryl Bromides and Chlorides in Air under Visible Light, Journal of Catalysis (2020),

DOI: 10.1016/j.jcat.2020.06.025

https://doi.org/10.1016/j.jcat.2020.06.025