高折射率聚合物（HRIP）近来已成为一类重要的材料，可用于包括图像传感器，光刻和发光二极管在内的各种光电设备。然而，获得具有超过1.8的折射率同时在可见光范围内保持完全透明的聚合物仍然是巨大的挑战。

近日，韩国科学技术院Sung Gap Im，韩国庆熙大学Jeewoo Lim，首尔大学Kookheon Char报道了一种独特的一步法气相工艺，称为硫化学气相沉积，可以直接从元素硫制备高度稳定的超高折射率（n>1.9）聚合物。

文章要点

1）该沉积过程包括元素硫和乙烯基单体之间的气相自由基聚合，以提供具有可控厚度和硫含量以及高达1.91折射率的聚合物膜。

2）值得注意的是，由于聚合物中没有长多硫化物链段，因此，HRIP薄膜在可见光范围内表现出前所未有的光学透明度，这有望被广泛用于光学器件的关键组件。

Do Heung Kim, et al, One-step vapor-phase synthesis of transparent high refractive index sulfur-containing polymers, Sci. Adv. 2020

DOI：10.1126/sciadv.abb5320

https://advances.sciencemag.org/content/6/28/eabb5320