模板润湿法已广泛应用于一维聚合物纳米材料的制备。然而，由于聚合物对环境触发的非选择性，因此基于模板润湿方法的图案化控制仍然是一个巨大的挑战。

近日，台湾交通大学Jiun-Tai Chen报道了一种简便的光诱导纳米润湿（LIN）方法，以使用阳极氧化铝（AAO）模板来制造图案化的纳米阵列。

文章要点

1）在LIN方法中，含偶氮苯的聚合物(偶氮聚合物)被用作具有光致液化特性的光响应聚合物。由于聚合物中的偶氮苯基团在紫外光/可见光照射下可以表现出可逆的顺反光异构化，偶氮聚合物的T_gs可以被切换，从而引起固-液转变。

2）通过用不同类型的光掩模照射样品，可以选择性地诱导偶氮聚合物薄膜中的高分子链润湿AAO模板的纳米孔，从而形成图案化的聚合物纳米阵列。此外，成功实现了纳米阵列图案的可擦写性和可重写性。

3）与其他传统的模板润湿方法不同，使用这种新的策略，不需要加热或暴露在挥发性有机溶剂中。

总之，具有简便和用途广泛的LIN方法有望为制备图案化纳米阵列开辟广阔的道路。

Kuan-Ting Lin, et al, Light-Induced Nanowetting: Erasable and Rewritable Polymer Nanoarrays via Solid-to-Liquid Transitions, Nano Lett., 2020

DOI: 10.1021/acs.nanolett.0c01764

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.nanolett.0c01764