虽然氮化硼（BN）目前受到广泛关注，并且其物理、化学性质独特，但是BN的应用范围受到较大限制，因为该材料合成过程有较大难度，并且材料的品质难以保证。有鉴于此，韩国科学技术院(KAIST) Eugene N. Cho、Yeon Sik Jung等报道了一种合成BN的方法，具体通过脱溶剂诱导的粘附转换DIAS（desolvation‐induced adhesion switching）过程，通过转印过程合成了高质量BN薄膜材料。作者发现，通过对BN薄膜材料的边缘功能化，同时选择性的对薄膜界面能、溶剂化/脱溶剂化进行系统性的控制，对BN-BN、BN-膜、BN-基底之间的相互作用实现了较好的调控。

本文要点：

（1）

DIAS方法：通过尿素辅助球磨方法，BN材料边缘修饰羟基官能团，并剥离得到BN纳米片。将球磨后的BN纳米片用水进行清洗、透析和超声处理，随后真空抽滤后得到BN薄膜材料。并且这种真空抽滤BN薄膜材料能够轻松的转移到刻蚀的Si晶圆、PET膜、玻璃、树叶、金薄膜材料上。

通过这种DIAS方法，实现了接近100 %将BN薄膜转移到多种基底上，甚至包括不规则表面的材料基底上。得到的BN薄膜展现了非常高的透光性（＞90 %），极高的热稳定性（＞167 W m^-1 K^-1），达到数微米厚的高密度且堆叠完好的薄膜。

（2）

得到的BN材料具有杰出的散热性能，显著的光学增强效果，并且在发光、荧光、光伏器件等领域中的下一代光电器件中将起显著和重要的作用。

参考文献

Yujin Han, Hyeuk Jin Han, Yoonhyuk Rah, Cheolgyu Kim, Moohyum Kim, Hunhee Lim, Kwang Ho Ahn, Hanhwi Jang, Kyoungsik Yu, Taek‐Soo Kim, Eugene N. Cho*, Yeon Sik Jung*

Desolvation‐Triggered Versatile Transfer‐Printing of Pure BN Films with Thermal–Optical Dual Functionality, Adv. Mater. 2020

DOI: 10.1002/adma.202002099

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adma.202002099