还原活性酯RAE（Redox‐active esters）目前广泛应用于C-B键构建的前体分子，但是类似的其酸性前体分子物种难以通过单电子氧化得到稳定碳正离子，有鉴于此，南京大学Yi Wang等报道了普适性方法，能够通过温和条件中的光激发脱羧硼化反应快速合成芳基硼酸酯、脂肪基硼酸酯物种。在该方法中，通过N-羟基苯甲酰氯酯消除离去基团得到对应的芳基/烷基自由基，并且该方法兼容α-CF₃修饰底物。

本文要点：

（1）

反应优化。将1倍量N-羟基苯甲酰氯的酯、2.5倍量B₂Cat₂作为反应物，0.5 mol % Ir[dF(p-tBu)ppy)]₃作为光催化剂，在HMPA/EtOAc混合溶剂中进行反应，加入4Å 分子筛，在25 ℃蓝光LED光照作用中进行24 h反应，随后加入Et₃N和频哪醇得到对应的BPin修饰产物。

（2）

当反应的硼源分子选择B₂Pin₂而非B₂Cat₂，该反应无法进行；当反应在DMAc中而不是在HMPA/EtOAc中进行，仅仅有痕量产物生成。对反应的条件控制实验结果显示，当反应不加入Ir光催化剂或者在黑暗中，反应中未见任何产物生成。

（3）

反应机理。Ir(III)在光激发作用中将底物还原，得到对应的α-CF₃烷基自由基物种。同时B₂Cat₂和HMPA通过膦氧键相互作用活化，并将BCat和α-CF₃烷基自由基结合得到产物。

参考文献

Qiang Zhang, Xiaojuan Li, Weigang Zhang, Shengyang Ni, Yi Wang,* and Yi Pan

Decarboxylative Borylation of Stabilized and Activated Carbon Radicals, Angew. Chem. Int. Ed., 2020

DOI: 10.1002/anie.202008138

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/anie.202008138