纳米压印光刻（NIL）是新一代纳米制造技术，能够从原始母材表面复制纳米结构。
近日，美国伊利诺伊大学厄巴纳−香槟分校Nenad Miljkovic，Marianne Alleyne，美国陆军工程研究与发展中心Donald M. Cropek报道了一种使用可溶解模板开发的高度可扩展，简单且无损的NIL。该方法被称为可溶解模板纳米压印光刻（DT-NIL），利用经济的热塑性树脂来制造纳米压印模板，可以轻松地将其溶于简单的有机溶剂中。
文章要点
1）使用DT-NIL方法复制了具有约100 nm高表面纳米特征的蝉翼。基于所测纳米特征的直径和高度，原版，模板和复制品表面具有〜94％的相似性。
2）研究人员通过复制苍蝇翅膀上的折返式、多尺度和层次化特征以及基于硬硅晶片的人造纳米结构来展示DT-NIL的多功能性。此外，可以在环境条件下使用廉价的材料和设备利用DT-NIL技术。
该研究工作打开了经济和高通量的纳米制造工艺大门。
Junho Oh, et al, Dissolvable Template Nanoimprint Lithography: A Facile and Versatile Nanoscale Replication Technique, Nano Lett., 2020
DOI：10.1021/acs.nanolett.0c01547
https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.nanolett.0c01547
