Small: 水热合成ZnO向基底转移形成阵列用于光探测
纳米技术 纳米 2020-09-27

高晶化的ZnO等无机半导体氧化物由于具有优异的电子、光电性能,ZnO受到了广泛的关注。ZnO的合成能够通过高通量水热合成方法快速进行,但是大面积、高品质、可编程的ZnO合成,用于光电集成化学仍具有较高难度。有鉴于此,中国科学院理化技术研究所Hanfei Gao、Yuchen Wu等报道了通过毛细液桥(capillary‐bridge)方法,调控ZnO前体溶液的祛湿过程从而对前体排列进行图案化处理。通过前体排列结构的控制,高度晶化的垂直排列的高晶化ZnO阵列得以通过水热外延方法构建。

本文要点:

(1)

统计结果与结晶理论有助于实验优化、晶化反应机理的讨论,并且发现其中均相成核、异相成核过程的竞争关系。高度晶化的ZnO纳米带阵列得以通过表面活性剂辅助水热方法、转移到聚二甲基硅氧烷基底过程实现。基于ZnO微米带结构的光探测器展现了较高的响应性能(2.3×104 A W-1),光开关比达到105和非常好的循环性能。

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参考文献

Haohao Li, Meilin Liu, Jinjin Zhao, Hanfei Gao*, Jiangang Feng, Lei Jiang, Yuchen Wu*

Controllable Heterogeneous Nucleation for Patterning High‐Quality Vertical and Horizontal ZnO Microstructures toward Photodetectors, Small 2020

DOI: 10.1002/smll.202004136

https://www.onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/smll.202004136


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