Angew: Al(II)二氢化物还原反应性
纳米技术 纳米 2020-10-07

过渡金属有机化学中,氧化加成、还原消除过程是确定的反应,在主族元素化学中,氧化加成反应过程得以很好的理解,但是还原消除反应的普适性过程仍未得到很好的解释。有鉴于此,爱丁堡大学Michael J Cowley等报道了一种酰胺基膦配体修饰的二氢二铝烷(dihydrodialane),通过在分子中安装酰胺基膦配体作为较大立体位阻作用基团,实现了对Al(I)、Al(III)中间体变化过程中可逆的还原消除/氧化加成反应中间体测试,结果显示Al(II)二氢二铝烷展现了与过渡金属类似的可逆还原消除作用

本文要点:

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以N/P混合配位的Al(III)二氢化物(1a/b, 2a/b, 3a/b, 4a/b)作为原料,通过[MesNacNacMg]2(MesNacNac=(MesNCMe)2CH)进行还原反应,合成Al(II)二氢二烷产物。

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参考文献

Rosalyn L. Falconer, Gary S. Nichol, Ivan V. Smolyar, Scott L. Cockroft, Michael J Cowley*

Reversible reductive elimination in Al(II) dihydrides, Angew. Chem. Int. Ed. 2020

DOI: 10.1002/anie.202011418

https://www.onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/anie.202011418


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