Angew:Ni催化Dipp修饰咪唑基介离子芳基转移
纳米技术 纳米 2020-11-09

比勒费尔德大学Rajendra S. Ghadwal等报道了几种修饰1,2-Dipp结构的介离子(mesoionic)在Ni催化反应中生成1,3-咪唑类分子。在该反应生成咪唑类分子过程中,反应物中的N-CDipp键切断,随后形成C-CDipp键,从而修饰在N上的Dipp转移到邻位C原子上,该反应过程在以往NHC催化反应过程中并未被发现。

本文要点:

(1)

1,2-Dipp转移反应优化。以N,N-双Dipp修饰的咪唑溴盐(1a)作为原料,加入丁基锂碱消除HBr,生成咪唑卡宾(2a)分子,随后加入Ni(cod)2催化剂在甲苯中反应,实现了Dipp的1,2-转移反应,从而卡宾位点修饰Dipp。

(2)

合成的芳基转移产物3a通过N-甲基化反应转化为介离子4a,随后在KN(SiMe3)2进行反应,消除HN(SiMe3)2、KX,形成卡宾物种。随后加入Se,Se在卡宾碳通过生成C-Se键得到硒化物;加入(Me2S)AuCl与卡宾反应,生成Au有机物;加入烯丙基Pd分子,生成Pd有机物种分子。

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参考文献

Arne Merschel, Timo Glodde, Beate Neumann, Hans-Georg Stammler, and Rajendra S. Ghadwal*, Nickel Catalyzed Intramolecular 1,2‐Aryl Migration of Mesoionic Carbenes (iMICs), Angew. Chem. Int. Ed. 2020

DOI: 10.1002/anie.202014328

https://www.onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/anie.202014328


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