由于其晶型之间极小的能量差,MoTe2可以在低温下获得从2H半导体态到1T’半金属态,从TdWeyl半金属态到1T’和Td相超导态的全电子态。因此,它既是研究相变的模型,也是研究量子自旋霍尔效应和拓扑超导电性等量子现象的模型。而对于MoTe2及其潜在应用的深入研究,则需要具有高结晶度和厚度可控的大面积MoTe2薄膜。
有鉴于此,耶鲁大学 Judy J. Cha报道了通过ALD法在蓝宝石上沉积MoOx前驱体薄膜,实现了2H-MoTe2的大面积层控合成。
文章要点
1)研究人员通过控制前驱体MoOx膜的初始厚度来实现层控制,将膜通过ALD法沉积在蓝宝石衬底上,然后进行电镀。尽管采用范德华外延,但前驱体−衬底界面对薄膜厚度和晶粒度的均匀性起着至关重要的作用:生长在蓝宝石上的MoTe2呈现均匀的薄膜,而生长在非晶态SiO2衬底上的MoTe2则形成孤岛。
2)研究发现,MoOx的ALD循环次数与MoTe2的最终厚度之间存在单调关系,这表明采用理想的AlD循环次数的MoOx薄膜可以获得具有整层厚度的MoTe2薄膜。同时,该合成适用于其他TMDs,包括WTe2。
3)具有层控的MoTe2薄膜为进一步研究层相关性质和相变MoTe2及相关应用提供了机会。例如,可以通过层数和衬底效应的函数来研究MoTe2相变存储器的半导体2H-半金属1T‘相转换。
David J. Hynek, et al, cm2‑Scale Synthesis of MoTe2Thin Films with Large Grains and Layer Control, ACS Nano, 2020
DOI: 10.1021/acsnano.0c08069
https://dx.doi.org/10.1021/acsnano.0c08069