JACS:芳基修饰Pt(IV)分子还原消除合成芳基胺
纳米技术 纳米 2020-11-25

特拉维夫大学Arkadi Vigalok、马里兰大学Andrei N. Vedernikov等报道了一种以往从未发现的反应,通过Pt(IV)芳基结构分子进行快速的芳基C(sp2)-X还原消除反应,其中Pt(IV)分子的种类包括 (Ar = p-FC6H4) LPtIVF(py)(Ar)X (X = CN, Cl, 4-OC6H4NO2) and LPtIVF2(Ar)(HX) (X = NHAlk; Alk = n-Bu, PhCH2, cyclo-C6H11t-Bu, cyclopropylmethyl)。该反应过程中,C(sp2)-X的还原消除反应遵循一级动力学过程,通过DFT计算模拟验证了该动力学过程。

本文要点:

(1)

当LPtIVF2(Ar)(py) 分子和TMS–X (TMS = trimethylsilyl; X= NMe2, SPh, OPh, CCPh)反应,会生成Ar-X偶联产物;当LPtIVF2(Ar)(HX) 配合物中的HX=NH2Alk,反应在是否有Et3N的反应情况中,分别会生成单芳基(ArNHAlk)、双芳基(Ar2NAlk)产物。

(2)

该方法学的意义在于,通过不同芳基官能团的分子一步合成双芳基烷基胺产物,同时该反应能在温和条件中合成N-芳基化氨基酸衍生物分子。

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参考文献

Xiaoxi Lin, Arkadi Vigalok*, and Andrei N. Vedernikov*, Aryl C(sp2)–X Coupling (X = C, N, O, Cl) and Facile Control of N-Mono- and N,N-Diarylation of Primary Alkylamines at a Pt(IV) Center, J. Am. Chem. Soc. 2020

DOI: 10.1021/jacs.0c09452

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/jacs.0c09452

 


    

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