东京工业大学Ken Motokura等报道了发展一种修饰在SiO₂表面的Ir复合物分子催化剂，发现该催化剂在芳烃C-H键硼烷化反应中，受到多种因素影响：Ir-联吡啶复合物中连接到SiO₂界面上-(CH₂)_x-长度；界面上共同担载的有机配体分子；芳基底物分子中的官能团。

本文要点：

（1）

SiO₂界面修饰Ir催化剂。在非多孔结构SiO₂上通过硅偶联剂和联吡啶结合，从而修饰在SiO₂界面的-OH上，随后通过和[Ir(OMe)(cod)]₂反应，将Ir修饰到界面联吡啶配体上。随后，通过含有有机胺基团的硅烷试剂修饰在SiO₂界面上的-OH上。从而在SiO₂界面上实现了Ir催化剂和碱性有机胺。

（2）

通过对催化剂进行精确调控，在对苯甲腈等特定结构的底物中，这种修饰在SiO₂的Ir催化剂展示了比均相过程中更高的催化活性。通过ssNMR、FTIR、X射线吸收、原位FTIR等分析方法对催化剂的性质进行表征。

参考文献

Kyogo Maeda, Yohei Uemura, Wang-Jae Chun, Shazia Sharmin Satter, Kiyotaka Nakajima, Yuichi Manaka, and Ken Motokura*, Controllable Factors of Supported Ir Complex Catalysis for Aromatic C–H Borylation, ACS Catal. 2020, 10, XXX, 14552–14559

DOI: 10.1021/acscatal.0c03734

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acscatal.0c03734