双过渡金属氟化物具有复杂电子结构，高价态镍氟化物是目前抑制的氧化能力最高的试剂，但是对NiF₃、NiF₄分子的结构、光谱学表征仍较为缺乏，除了此类分子合成上的需求，对此类分子的相关量子化学计算结果难以进行，因为该类型分子表现为开壳层，激发态能量较低。有鉴于此，柏林自由大学Sebastian Hasenstab-Riedel等报道了通过在氟/稀有气体混合气氛中通过热蒸发方法、激光烧蚀过程合成了扭曲结构四面体NiF₄、平面三角形NiF₃分子，随后通过基质隔离（Matrix Insulation）光谱技术、量子化学计算等方法鉴定了这种高价态Ni氟化物，振动光谱峰位置为分子结构提供详细信息。本工作首次对NiF₃、NiF₄分子进行光谱学研究。

本文要点：

（1）

制备镍的氟化物方法。首先通过加热蒸发Ni单质材料得到气态Ni原子，随后在10 K温度中进行气态Ni与稀释在稀有气体中的F₂气反应。此外，通过1064 nm Nd:YAG激光烧蚀Ni金属，在6~15 K温度区间实现了气体Ni原子制备，随后和氟原子、氟自由基反应。

参考文献

Lin Li, Ahmed K. Sakr, Tobias Schlöder, Siri Klein, Helmut Beckers, Marios-Petros Kitsaras, Howard V. Snelling, Nigel A. Young, Dirk Andrae, Sebastian Hasenstab-Riedel*, Searching for Monomeric Nickel Tetrafluoride: Unravelling Infrared Matrix Isolation Spectra of Higher Nickel Fluorides, Angew. Chem. Int. Ed. 2020

DOI: 10.1002/anie.202015501

https://www.onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/anie.202015501