Adv Mater综述:基于氧化物的电阻存储器器件
纳米技术 纳米 2020-12-14

基于氧化物的电阻开关存储器对物联网发展具有关键的需求,需要低功耗、高密度、新计算方法,能够以价格合理的过程进行大批量器件制备。目前大多数见诸报道的氧化物的电阻开关存储器一般都是通过物理/化学气相沉积方法构建,因此器件的制备过程非常昂贵,因为该过程中的大规模制备难以实现。因此基于溶液相的制备方法得以发展,同时能够实现大面积上均匀担载、透明、廉价、步骤简单、广泛的兼容性,为未来的非易失性存储器提供制备方案

有鉴于此,葡萄牙里斯本新大学Emanuel Carlos、Asal Kiazadeh、Elvira Fortunato等报道了非易失性存储器的相关进展。

本文要点:

(1)

首先介绍了非易失性存储器的发展历程,阐释了溶液相合成氧化物基电阻式随机存取存储器(S-RRAM)的进展情况。

(2)

随后,对溶液相合成方法中的各种参数和条件、与器件性能之间的关系进行总结。讨论了金属氧化物薄膜的分析、S-RRAM器件目前的发展和大规模制备中的进展情况进行总结。对控制合成过程中的方法、金属盐前体分子、稳定剂、修饰物、比例等参数条件,对溶液相方法合成中薄膜厚度、环境条件等对金属氧化物薄膜材料性能的改善等方面进行介绍。在各种参数中,最为关键的问题在于合成、沉积方法,温和的制备条件/过程。此外,器件中材料和金属接触之间形成的Schottky、Ohmic异质结不对称结构在器件中非常关键。

(3)

最后,讨论了S-RRAM器件中的主要挑战进行总结,给出了S-RRAM器件的未来发展方向。

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参考文献

Emanuel Carlos*, Rita Branquinho, Rodrigo Martins, Asal Kiazadeh*, Elvira Fortunato*

Recent Progress in Solution‐Based Metal Oxide Resistive Switching Devices, Adv. Mater. 2020

DOI: 10.1002/adma.202004328

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/adma.202004328

 


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