解决工业和日常生活中的金属腐蚀是一项世界性难题。传统的防腐方法，包括牺牲阳极或保护膜，都存在性能上的局限性。

近日，南京大学郝玉峰教授报道了一种采用用化学气相沉积法生长的原子薄、多晶的少层石墨烯（FLG），并作为铜（Cu）的长期保护膜。

文章要点

1）经FLG保护的Cu表面在暴露于空气中至少六年后仍保持光泽。同时，详细的材料表征没有发现氧化迹象。

2）研究发现，经FLG保护Cu表面的防腐蚀特性取决于其缺陷而不是其完美性：FLG体系中每个石墨烯层中晶界（GB）错位在防腐方面起着至关重要的作用。

3）通过理论计算，研究人员进一步发现，腐蚀性分子在通过FLG层扩散时始终会遇到极高的能垒。因此，FLG能够防止腐蚀性分子到达下面的Cu表面。

这项工作突出了多晶FLG的独特结构，并深入研究了用于各种应用的原子薄涂层。

参考文献

Zhijuan Zhao, et al, Polycrystalline Few-Layer Graphene as a Durable Anticorrosion Film for Copper, Nano Lett., 2021

DOI: 10.1021/acs.nanolett.0c04724

https://dx.doi.org/10.1021/acs.nanolett.0c04724