Angew:介孔SiO2中修饰稳定自由基用于量子信息处理
纳米技术 纳米 2021-01-26

在量子计算和量子信息处理过程(QC/QIP)中,获得合适的量子位(比特)、以及其操控至关重要,目前大多数具有广泛前景的量子比特难以在温和条件中进行操作,有鉴于此,新西伯利亚国立大学Matvey V. Fedin德国汉堡大学Michael Fröba等报道了一种自由基修饰多孔SiO2作为一种多功能的具有广泛前景的纳米基底用于基于自旋的QC/QIP体系

 本文要点:

(1)

在该体系中作者通过稳定性较高的布拉特自由基(Blatter Radical),其中电子的自旋退相干时间在室温中非常高(达到Tm~2.3 μs),从而能够通过微波有效的控制自旋。由于介孔结构没有核自旋,因此通过在介孔空间内修饰客体分子,有望提供更多机会。

(2)

该材料的鲁棒性和可调性,为其用于将来QC/QIP的进一步发展提供机会。

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参考文献

Artem S. Poryvaev, Eva Gjuzi, Daniil M. Polyukhov, Frank Hoffmann, Michael Fröba,* Matvey V. Fedin,* Blatter Radical‐Grafted Mesoporous Silica as Prospective Nanoplatform for Spin Manipulation at Ambient Conditions, Angew. Chem. Int. Ed. 2021,

DOI: 10.1002/anie.202015058

https://www.onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/anie.202015058


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