ACS Nano:脉冲激光沉积法生长的MoS2的本征缺陷:从单层到双层
Nanoyu Nanoyu 2021-02-14


脉冲激光沉积(PLD)被认为是将二维(2D)过渡金属二硫属化物(TMDs)生长为范德华异质结构的有效方法。尽管人们已经取得了巨大进展,但尚未深入研究通过PLD生长的2D TMDs中的缺陷。

近日,丹麦科技大学Stela Canulescu,Fabian Bertoldo报道了通过原子分辨率图像和第一性原理计算,成功揭示了PLD生长的单层和双层MoS2中缺陷、晶粒和晶界的原子结构。

文章要点

1研究发现,S空位和MoS反位点是二维MoS2中的主要点缺陷。研究人员预测,在富Mo/贫S环境下,热力学上是有利于上述点缺陷。

2MoS2单层具有多晶性,并且具有通过高密度晶界连接的纳米级晶粒。特别地,纳米晶粒的聚结导致形成了由不同的4元和8元环组成的180°镜面孪晶界。

3PLD合成的双层MoS2不仅产生了各种结构对称性,包括AA‘和AB,而且还产生了具有特征云纹图案的涡轮层状结构。此外,研究人员通过实验演示了在双层MoS2中电子束驱动的AB和AA‘堆积取向之间的跃迁。

这些结果详细地揭示了单层MoS2的原子结构和晶界对双层MoS2生长的影响,对于其在光电子学中的应用具有重要意义。

 

参考文献

Fabian Bertoldo, et al, Intrinsic Defects in MoS2 Grown by Pulsed Laser Deposition: From Monolayers to Bilayers, ACS Nano, 2021

DOI: 10.1021/acsnano.0c08835

https://dx.doi.org/10.1021/acsnano.0c08835


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