虽然van der Waals材料界面通常是化学惰性、非破坏性、可规模化，有鉴于此，香港城市大学Thuc Hue Ly、香港理工大学赵炯、淮阴师范学院邓庆明等报道了通过简单的光化学方法在ReX₂ (X=S, Se)中进行可逆还原反应。通过UV紫外光（潮湿性）、激光处理能够对ReS₂、ReSe₂分别进行可逆的氧化、还原反应处理，从而实现可调节的掺杂处理。

本文要点：

（1）

通过Raman光谱、动态力学显微镜、TEM、X射线光电子能谱等技术结合，确认了该过程中在完整界面上实现了修饰、消除共价修饰含氧基团物种，从而能够在广泛区间进行光学、电子学性质进行调控。

（2）

这种通过避免溶剂、污染的光学直写、可重写能力修饰化学掺杂对于二维材料的时代非常重要。

参考文献

Lingli Huang, Tiefeng Yang, Lok Wing Wong, Fangyuan Zheng, Xin Chen, Ka Hei Lai, Haijun Liu, Quoc Huy Thi, Dong Shen, Chun‐Sing Lee, Qingming Deng, Jiong Zhao, Thuc Hue Ly, Redox Photochemistry on Van Der Waals Surfaces for Reversible Doping in 2D Materials, Adv. Funct. Mater. 2021, 2009166.

DOI: 10.1002/adfm.202009166

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/adfm.202009166