深紫外非线性光学材料（DUV NLO）由于结构多种多样、结构复杂，可能产生显著研究应用前景，有鉴于此，中国科学院新疆理化技术研究所杨志华、潘世烈，俄罗斯斯科尔科沃科学技术研究院Artem R. Oganov、南京邮电大学Zhenhai Wang等报道了通过第一性原理计算进行二维晶体结构预测，发现一种新型van der Waals层状18元环B₂O₃材料，同时在深紫外非线性光学领域展示了较高性能，分别能够以5种模式进行堆叠，分别为AA, AB, AA’, AB’, AC’。当以AA、AB堆叠模式结合时，短波吸收边界将分别达到166 nm、154 nm。

本文要点：

（1）

其中以AB结构堆叠形成的材料实现了高达1.63 pm/V的二次谐波产生系数，该结果是目前深紫外非线性光学材料中最高结果，比目前非常先进的KBe₂BO₃F₂的高三倍，和β-BaB₂O₄的性能类似。18元环结构B₂O₃以AB结构堆叠在400 nm波长处形成的较高双折射达到0.196，相位匹配的波长极限吸收波长边界达到154 nm。

参考文献

Hao Li, Jingmei Min, Zhihua Yang*, Zhenhai Wang*, Shilie Pan*, Artem R. Oganov*, Prediction of Novel van der Waals Boron Oxides with Superior Deep‐Ultraviolet Nonlinear Optical Performance, Angew. Chem. Int. Ed. 2021

DOI: 10.1002/anie.202015622

https://www.onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/anie.202015622