多杂原子共掺碳涂层由于其协同效应，可以显著提高电极材料的电导率和传质速率。

近日，宁波大学舒杰教授，黑龙江大学谢颖教授，清华大学深圳研究生院贺艳兵报道了采用一种简便的硫脲蒸发法在GeNb₁₈O₄₇表面制备了N，S共掺杂碳膜（GNO@NSC）。

文章要点

1）理论计算和实验结果证实了N，S共掺杂在GNO@NSC复合材料中的协同效应。N，S共掺杂不仅增加了碳材料的层间距，还增加了储锂的活化位；同时，在GNO上引入共掺杂碳层显著增强了与GNO的成键作用，使复合材料具有优异的结构稳定性和导电性。

2）实验结果表明，GNO@NSC复合材料具有优异的结构可逆性、较大的比容量和较高的倍率性能。GNO@NSC纳米线具有288 mAh g^-1的高度可逆容量，并表现出优异的循环稳定性，在1 A g^-1的高电流密度下，6000次循环后的容量保持率为78.9%。

这项研究揭示了N、S共掺杂碳涂层的作用机理和铌氧化物性能改善的原因，为相关材料的设计和开发提供了参考。

参考文献

Xing Cheng, et al, Insight into the Synergistic Effect of N, S Co-Doping for Carbon Coating Layer on Niobium Oxide Anodes with Ultra-Long Life, Adv. Funct. Mater. 2021

DOI: 10.1002/adfm.202100311

https://doi.org/10.1002/adfm.202100311