东京大学Yuki Nagashima、Masanobu Uchiyama等报道了一种光激发实现端炔的锡化反应、氟芳烃脱氟锡化反应方法学，在该方法学中，基态锡阴离子在光激发条件中形成三重态（T₁）双自由基锡物种，这种T₁锡双自由基物种的反应性和基态锡、锡单自由基物种的反应性完全不同。该方法学操作简单方便，具有广泛的官能团兼容性，无需加入任何催化剂就能够实现较高的反应产率。

本文要点：

（1）

反应实施。以正辛炔、三叔丁基锡三甲基硅烷作为反应物，加入2倍量CsF，1倍量MeOH，在二氧六环中反应，蓝光光照室温反应，合成三叔丁基锡修饰的烯烃。

（2）

当端炔分子为芳基取代炔烃，反应中加入2倍量KF，18-冠-6，H₂O，在二氧六环中反应，蓝光LED中室温反应，合成三叔丁基锡修饰的烯烃。

参考文献

Kyoka Sakamoto, Yuki Nagashima*, Chao Wang, Kazunori Miyamoto, Ken Tanaka, and Masanobu Uchiyama*, Illuminating Stannylation, J. Am. Chem. Soc. 2021

DOI: 10.1021/jacs.1c00887

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/jacs.1c00887