AFM:用H-取代法调节石墨二炔的电子带隙促进界面载流子分离助力光催化制氢
Nanoyu Nanoyu 2021-03-30


石墨二炔(Graphdiyne,GDY)具有高度的π共轭结构、直接带隙和高载流子迁移率,满足光催化的主要要求。然而,迄今为止,所有的光催化研究都没有过多地关注GDY带隙(在G0W0多体理论下为1.1 eV)。这样窄的带隙不适合GDY和其他半导体之间的能带对准,难以实现高效的光生电荷载流子分离。

近日,巴黎萨克雷大学Mohamed Nawfal Ghazzal报道了首次证明了通过H-取代调节GDY的电子带隙(H-GDY)可以促进界面电荷分离和光催化放氢。

文章要点

1H-GDY显示出更高的带隙能垒(≈2.5 eV)和可利用的导带最小边和价带最大边。

2作为一种代表性半导体,研究人员将TiO2与H-GDY和GDY杂化制备了异质结。与GDY/TiO2相比,H-GDY/TiO2异质结在紫外-可见光下(6200 µmol h−1 g−1)和可见光下(670 µmol h−1 g−1)的光催化产氢能力分别提高了1.35倍和4倍。

3H-GDY/TiO2异质结优异的光催化性能归因于H-GDY和TiO2之间合适的能带排列,此外,密度泛函理论(DFT)计算证实了这种排列有效地促进了光生电子和空穴的分离。

 

参考文献

Jian Li, et al, Tuning the Electronic Bandgap of Graphdiyne by H-Substitution to Promote Interfacial Charge Carrier Separation for Enhanced Photocatalytic Hydrogen Production, Adv. Funct. Mater. 2021

DOI: 10.1002/adfm.202100994

https://doi.org/10.1002/adfm.202100994.


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