北海道大学ACS Catal:氧化钒、Cu催化剂的NH3-SCR催化反应机理
纳米技术 纳米 2021-08-24

钒基催化剂、铜基催化剂的NH3-SCR反应机理被广泛和深入研究,相关研究中发现钒基催化剂、铜基催化剂的NH3-SCR催化反应机理非常类似,但是仍存在一些未得以理解的问题。比如,人们目前对钒基催化剂、铜基催化剂上NH3具体吸附在Lewis酸位点或者Brønsted酸位点作为催化反应中间体并不清楚。

有鉴于此,北海道大学Ken-ichi Shimizu等报道通过in situ表征、Operando表征方法测试NO、NH3在200 ℃条件的NH3-SCR反应,通过对四种不同结构的催化剂(担载于TiO2、块体V2O5、Cu-AFX分子筛、Cu-CHA分子筛)进行表征,提出了一种普适的NH3-SCR催化反应机理

该反应的还原半反应的起始是通过在Lewis酸位点(V(V)、Cu(II)、L-NH3)上进行NH3和NO反应,随后NH3在Brønsted酸位点(B-NH3)上与NO发生反应。该反应过程导致生成V(IV)、Cu(I)、H+,同时反应产物生成N2和H2O。

本文要点:

(1)

作者通过UV-Vis测试该反应,发现当催化剂的V(V)或Cu(II)没有完全消除,催化反应能够持续生成N2

被还原的催化剂能够通过O2重新处理得以氧化,从而导致催化剂界面上重新生成V(V)、Cu(II),同时消除界面上生成的H+生成H2O。

当反应气氛为NO和O2,催化剂的B-NH3、L-NH3位点消耗速率比反应气氛单独为NO的时候更高,这种现象在以往的报道中被发现并且以往研究中被解释为持续进行V(V)/V(IV)或者Cu(II)/Cu(I)氧化还原反应循环生成V(V)或Cu(II)位点。

(2)

通过V(V)或Cu(II)位点的重新氧化现象,B-NH3物种与NO反应生成N2,因此说明B-NH3作为存储NH3分子参与催化反应过程,具体通过转移NH3或者HONO物种进行第二个还原半反应

本文研究结果给出了NH3-SCR反应的普适应机理和证据,展示了V基、Cu基催化剂的详细反应机理。

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参考文献

Hiroe Kubota, Takashi Toyao, Zen Maeno, Yusuke Inomata, Toru Murayama, Naoto Nakazawa, Satoshi Inagaki, Yoshihiro Kubota, and Ken-ichi Shimizu*, Analogous Mechanistic Features of NH3-SCR over Vanadium Oxide and Copper Zeolite Catalysts, ACS Catal. 2021, 11, 11180–11192

DOI: 10.1021/acscatal.1c02860

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acscatal.1c02860


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