电子束光刻（EBL）以提供深纳米尺度的制造分辨率而闻名。当前EBL技术的一个主要限制是它们不能任意进行3d纳米制造。而分辨率、结构完整性和功能化是最重要的因素。

近日，中科院上海微系统与信息技术研究所Tiger H. Tao，上海交通大学夏小霞教授报道了使用开发的电压调节3d EBL，以亚15nm的分辨率，实现全水基高保真制造功能性任意3d纳米结构。

文章要点

1）通过基因工程重组蜘蛛丝蛋白作为抗蚀剂，可以在纳米尺度上构建高分辨率和高强度的任意3d结构。

2）可定量定义3d蛋白质基质中不同深度的高能电子的结构转变，使得多态蜘蛛丝蛋白的形状接近分子水平。

3）蜘蛛丝蛋白的遗传或介观修饰为在3d纳米结构中嵌入和稳定理化或生物功能提供了机会。

所提出的方法使异质功能化和分层结构的3d纳米组件和纳米设备的快速和灵活制造成为可能，为仿生学、治疗设备和纳米机器人提供了机会。

参考文献

Qin, N., Qian, ZG., Zhou, C. et al. 3D electron-beam writing at sub-15 nm resolution using spider silk as a resist. Nat Commun 12, 5133 (2021).

DOI：10.1038/s41467-021-25470-1

https://doi.org/10.1038/s41467-021-25470-1