哈工大Angew:亚表面碳诱导的铜局域电荷用于表面置换反应
Nanoyu Nanoyu 2021-08-27


近年来,过渡金属碳化物作为高性能催化剂引起了人们前所未有的关注。尽管如此,关于铜(Cu)碳化物的催化性能仍未得到探索。

近日,哈工大于淼教授报道了亚表面C(C-Cuδ+)诱导的局部带电Cu表面层及其在表面置换反应中的催化应用。

文章要点

1研究人员采用乙烯的高温分解将C引入到Cu(111)面。经过四次C掺杂后,X射线光电子能谱(XPS)分析表明C的存在。扫描隧道显微镜(STM)图像显示,Cu台阶处没有显示出C物种的簇状或片状,因此C原子不是位于Cu(111)表面的顶部,而是扩散到底部中。与未掺杂的Cu(111)相比,掺C的Cu表面原子排列变化不大,台阶边缘光滑,表面有无规则分布的小而浅的凹坑。密度泛函理论(DFT)计算表明,碳原子最稳定的占据是亚表面八面体位置。

2将3,5-二(羧酸)-苯基-3-马来酰亚胺(C12H7NO6,记为BCPM)应用于C-Cuδ+。结果显示,在室温(RT)条件下,用单个Cu原子有效地取代了BCPM中每个羧酸基上的质子,生成了一种新的化合物Cu2C12H5NO6。相反,这种置换反应不会在原始Cu(111)上发生,甚至在高温下也不会发生,直到吸附物完全解吸。

3这两种情况下的差异归因于C-Cuδ+表面每Cu原子高达+0.30 e的局域电荷,使去质子势垒降低了0.11 eV(每个CA基团),从而显著提高了去质子率。结果表明,在RT条件下,BCPM在C-Cuδ+上的吸附使CA和Cu原子的质子发生快速置换。

 

参考文献

Shaoshan Wang, et al, Subsurface Carbon-Induced Local Charge of Copper for On Surface Displacement Reaction, Angew. Chem. Int. Ed., 2021

DOI: 10.1002/anie.202108712

https://doi.org/10.1002/anie.202108712


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