金属纳米间隙材料（Metallic nanogaps），是一种金属纳米粒子之间的间距小于10 nm的材料，这种材料在纳米光子学、纳米电子学领域具有广泛的研究应用前景。但是这种金属纳米间隙材料的合成和制备具有非常大的挑战，尤其是制备这种材料的过程中需要在宏观尺度保持微观尺度的纳米图案和结构。

有鉴于此，挪威科技大学John C. de Mello等综述报道总结合成金属纳米粒子之间小于10 nm间距的间隙型金属纳米材料（metallic nanogap）中一些最关键的技术的发展和物理学机制，对各种合成方法进行对比，对其中的优势和缺陷进行讨论。

本文要点：

（1）

分别对光刻技术（photolithography）、电子束刻蚀（EBL, electron-beam lithography）、聚焦离子束铣削（FIB milling, focused ion beam milling）等进行介绍，此外对一系列新发展的方法（使用电化学、机械方式）的相关进展进行介绍。

（2）

作者对每种方法中的物理学机制进行总结，对各种方法得到纳米间隙材料的分辨率、精确度、速度、操作方便性、普适性、大规模合成的可行性等进行总结和讨论。

参考文献

Sihai Luo, Bård H. Hoff, Stefan A. Maier, John C. de Mello*, Scalable Fabrication of Metallic Nanogaps at the Sub-10 nm Level, Adv. Sci. 2021, 2102756

DOI: 10.1002/advs.202102756

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/advs.202102756