具有CPL活性的材料在信息应用中很有前景,例如安全编码、传感器、3D显示和光学数据存储。近日,郑州大学Shuang-Quan Zang等首次报道了将缺陷工程策略应用于团簇基缺陷晶体的制备,获得了全色可调圆偏振发光的手性银(I)团簇-染料共组装缺陷晶体。
本文要点:
1)作者选用一对对映体团簇(CO3)@Ag24(StBu)10(L/D-proline)8(NO3)4(H2O)(L/D-Ag24,手性P21空间群)晶体为前驱体,选用四种具有不同发射颜色的非手性染料分子(Na2CF351、3-BSPDI、FL-Na和RB-Na)来制备手性缺陷晶体,获得了四对缺陷晶体,L/D-Ag24-Na2CF351,L/D-Ag24-3-BSPDI,L/D-Ag24-FL-Na和L/D-Ag24-RB-Na。
2)这四对手性缺陷晶体具有全色发射和圆偏振发光(CPL),发光不对称因子值(glum)可达~3×10-3。
3)研究表明,染料分子充当缺陷诱导剂并赋予晶体荧光。此外,静电相互作用是获得缺陷晶体的主要动力,手性空间的限制作用和缺陷晶体中的弱相互作用使得手性从本征手性主体银(I)团簇有效转移到非手性发光掺杂剂并最终诱导它们发出明亮的CPL。
该工作报道的缺陷工程策略为晶体团簇基材料的多功能化开辟了一条新途径。
Si Li, et al. Full-Color Tunable Circularly Polarized Luminescence Induced by the Crystal Defect from the Co-assembly of Chiral Silver(I) Clusters and Dyes. J. Am. Chem. Soc., 2021
DOI: 10.1021/jacs.1c09245
https://doi.org/10.1021/jacs.1c09245