Angew:硅酰胺阴离子[Si(C2F5)3]−上C-F键的氧化加成
Nanoyu Nanoyu 2022-02-04


低氧化态主族元素的化合物与过渡金属配合物的反应性相似。与后者类似,这些主要基团物种具有改变其氧化态和配位数+2的倾向,从而满足了氧化加成的要求。与有机卤化物R-X (R =烷基,芳基,X = F, Cl, Br, I)进行氧化的这种主要基团化合物的突出例子是碳烯及其高级同系物。近年来,人们发现了铝基阴离子,它与碳烯和硅烯一样,在氧化作用下形成R-X的强σ键。

近日,德国比勒费尔德大学Berthold Hoge报道了强调了tris(pentafluoroethyl)silanide阴离子在芳基和烯基氟化物中通过氧化加成容易裂解C-F键的潜力。因此,它偏离了阴离子发生亲核取代的典型倾向。来自14族元素的阴离子,能够进行OA反应,为合成不同寻常的、新颖的化合物打开了大门。

文章要点

1没有螯合配体的四有机氟硅酸盐[EtP4H]1a-f,以前只被观察到作为活性中间体,现在被分离和完全表征。氟硅酸盐[EtP4H]1a在不同温度下的核磁共振波谱显示C2F5基团和氟原子在溶液中的快速交换。固体中存在两个C2F5基团或一个C2F5基团的不同异构体和轴向位置的氟原子。有关[Si(C2F5)3]阴离子氧化加成其他σ-键的能力的研究正在进行中。

参考文献

Natalia Tiessen, et al, Oxidative Additions of C-F Bonds to the Silanide Anion [Si(C2F5)3], Angew. Chem. Int. Ed. 2022

DOI: 10.1002/anie.202116468

https://doi.org/10.1002/anie.202116468


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