模拟光合成是太阳能转化为工业化学品的一种理想技术。通过异相催化方法在H₂O溶液中进行光催化固定N₂分子是可持续制备NH₃的合理方法。但是目前人们仍然对光催化N₂还原反应机理的深入理解非常缺乏。

有鉴于此，电子科技大学董帆等报道在超薄Bi₄O₅Br₅纳米片上进行光催化N₂还原反应中发现光有关催化剂表面保护现象，作者发现表面溴化是催化剂表面Br空穴位点的形成和消除。

本文要点：

（1）

通过原位快速扫描红外光谱，验证Bi₄O₅Br₅纳米片上的光催化N₂还原反应机理，是界面Br空穴位点的缔合机理。

（2）

本文研究将光依赖性反应与光非依赖性的催化剂重生结合，实现了可持续的制氨。

参考文献

Xing’an Dong, Zhihao Cui, Xian Shi, Ping Yan, Zhiming Wang, Anne C. Co, Fan Dong, Insights into Dynamic Surface Bromide Sites in Bi₄O₅Br₂ for Sustainable N₂ Photofixation, Angew. Chem. Int. Ed. 2022

DOI: 10.1002/anie.202200937

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/anie.202200937