南开大学Angew:氮杂环硼基稳定硅炔的合成与反应性
纳米技术 纳米 2022-05-27

人们对合成具有小分子活化能力的低价态Si分子受到人们的广泛关注。有鉴于此,南开大学崔春明等报道通过三倍量Li还原N杂环硼基三溴硅烷(NHB)SiBr3(2, NHB=[ArN(CMe)2NAr]B, Ar=2,6-iPr2C6H3)生成NHB配位稳定硅炔分子(NHB)Si≡Si(NHB) (3),并且考察硅炔的反应性。

本文要点:

(1)

硅炔3分子能够与甲苯缓慢的进行反应,通过活化苄基C-H化学键、C=C化学键,生成4号分子。当3号分子与1 atm H2在室温条件反应,选择性生成一个硼基稳定的1,2-二氢硅烯烃。

(2)

通过单晶XRD对3-5号分子的结构表征,发现35号分子中B-Si-Si-B原子共面结构。通过DFT计算,发现硅硅多重化学键的π电子离域到NHB环中的B-N化学键。

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参考文献

Yazhou Ding, Yang Li, Jianying Zhang, Chunming Cui, Synthesis of an N-Heterocylic Boryl-Stabilized Disilyne and its Application to the Activation of Dihydrogen and C−H Bonds, Angew. Chem. Int. Ed. 2022

DOI: 10.1002/anie.202205785

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/anie.202205785


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