在OER过程中，操纵活性物种和提高含硫催化剂的结构稳定性仍然是一个巨大的挑战。

近日，兰州大学席聘贤教授构建了NiO/NiS₂和Fe-NiO/NiS₂作为催化剂模型来研究Fe掺杂的影响。正如所料，Fe-NiO/NiS₂在10 mA·cm^-2下表现出270 mV的低过电位。

文章要点

1）研究发现，Fe掺杂后，羟基在材料表面的聚集，可以在较低的OER电位下促进高活性NiOOH的形成。

2）研究人员研究了M-S键的腐蚀程度，并比较了不同位置的M-S键与Fe的稳定性变化。有趣的是，与硫结合的铁作为牺牲剂可以减轻部分Ni-S键的氧化腐蚀，从而赋予Fe-NiO/NiS₂长期的耐久性。

这项工作将激励人们更多地关注解决含硫材料的腐蚀问题。

参考文献

Nan Zhang, et al, Surface Activation and Ni-S Stabilization in NiO/NiS₂ for Efficient Oxygen Evolution Reaction, Angew. Chem. Int. Ed. 2022

DOI: 10.1002/anie.202207217

https://doi.org/10.1002/anie.202207217