Adv. Mater.:MoS2/SnSe2异质结构中的掺杂工程实现高抑制比的日盲紫外光电检测
Nanoer-z Nanoer-z 2022-09-29



异质结构的能带对齐(band alignment)和掺杂工程(doping engineering)的目的性设计是实现器件结构设计和器件性能优化的关键。中科院半导体研究所邓惠雄研究员,魏钟鸣研究员和杨珏晗助理研究员等根据对过渡金属硫化物(TMDs)和第四主族金属硫化物中的几种典型材料进行理论预测,得到MoS2SnSe2呈现最大的能带偏移。由于大的能带偏移有利于光生载流子的分离,因此MoS2/SnSe2在理论上是制造光电探测器的理想候选材料,这在实验中也得到了验证。


本文要点:

1)采用化学气相输运(Chemical Vapor TransportCVT)法制备的SnSe2晶体由纯MoS2或掺杂MoS2构成,形成两种异质结。系统地研究了基于这两种异质结构的光电探测器的光电特性。由于纯MoS2SnSe2可以形成能带对齐,并且纯MoS2/SnSe2异质结构具有较大的能带偏移,因此可以显著促进光生载流子的分离,从而提高光电探测器的性能。

2)对于基于掺杂MoS2/SnSe2的典型光电探测器,其电子迁移率可达11.6 cm2 V-1 s-1SBUV254 nm)的响应度可达500 mA W-1、检测率可达3.3×109 Jones。此外,该器件的抑制比(R254 nm/R532 nm)高达250,响应速度快到微秒量级。


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参考文献

Yu, Y., Shen, T., Long, H., Zhong, M., Xin, K., Zhou, Z., Wang, X., Liu, Y.-Y., Wakabayashi, H., Liu, L., Yang, J., Wei, Z., Deng, H.-X., Doping Engineering in the MoS2/SnSe2 Heterostructure toward High-Rejection-Ratio Solar-Blind UV Photodetection. Adv. Mater. 2022, 2206486.

DOI: 10.1002/adma.202206486

https://doi.org/10.1002/adma.202206486

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