光刻技术在构图溶液处理的纳米材料、集成到先进的光电子器件方面显示出巨大的潜力。然而，由于传统的光学光刻工艺需要大量的溶剂和高能的紫外光曝光，钙钛矿型量子光刻技术与传统的光学光刻工艺不兼容，这是由于钙钛矿型量子（PQDs）光刻技术的缺陷。

近日，北京理工大学钟海政教授报道了一种基于溴化铅络合物催化的光聚合直接原位光刻技术来图案化PQD。

文章要点

1）通过将直接光刻和原位制备PQDs相结合，可以避免复杂的剥离过程和溶剂或高能紫外光对PQD的破坏，因为PQD是在光刻曝光后产生的。

2）研究人员进一步证明，在钙钛矿型前驱体溶液中，溴化铅络合物可以催化硫醇-烯自由基光聚合，而不需要外部引发剂或催化剂。

3）研究人员利用直接原位光刻，成功地展示了分辨率高达2450像素/英寸(PPI)、良好的荧光均匀度和良好的稳定性的PQD图案。

这项工作为高效发光PQD的非破坏性直接光刻开辟了一条途径，并有可能扩大其在光电器件中的应用。

参考文献

Zhang, P., Yang, G., Li, F. et al. Direct in situ photolithography of perovskite quantum dots based on photocatalysis of lead bromide complexes. Nat Commun 13, 6713 (2022).

DOI：10.1038/s41467-022-34453-9

https://doi.org/10.1038/s41467-022-34453-9