Adv Mater:在柔性聚酰亚胺基底上直接合成大面积MoS2图案
纳米技术 纳米 2022-11-11


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合成大面积图案化的MoS2是实现高性能MoS2柔性电子器件的关键,但是目前比较成熟的MoS2的图案化以及MoS2转移到柔性基底上工艺中,需要多个光刻图案化和转移工艺步骤。有鉴于此,西北工业大学黄维、王学文等报道结合墨水打印和热烧结技术,发展了大面积图案化MoS2的方法。

本文要点

(1)

首先制备能够在聚酰亚胺薄膜表面打印任意图案的墨水,随后在350 ℃的Ar/H2热煅烧处理,从而实现热分解和晶化生成MoS2。该方法无需复杂工艺过程,就实现了在聚酰亚胺薄膜上的MoS2图案化,而且具有优异的机械力学容柔韧性和耐久性(在10000次循环弯折后电阻仅仅改变2 %)、优异的化学稳定性,这种优异的性能来自于连续的微结构以及其能够与基底之间的强结合力。

(2)

将这种方法用于制备多种多样对身体运动和潮湿环境不敏感的柔性传感器件,包括温度传感器、生物电传感器,能够实时兼容皮肤温度、心电图和肌电图信号。

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参考文献

Weiwei Li, Manzhang Xu, Jiuwei Gao, Xiaoshan Zhang, He Huang, Ruoqing Zhao, Xigang Zhu, Yabao Yang, Lei Luo, Mengdi Chen, Hongjia Ji, Lu Zheng, Xuewen Wang, Wei Huang, Large-scale Ultra-robust MoS2 Patterns Directly Synthesized on Polymer Substrate for Flexible Sensing Electronics, Adv. Mater. 2022

DOI: 10.1002/adma.202207447

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/adma.202207447


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