合成大面积图案化的MoS2是实现高性能MoS2柔性电子器件的关键,但是目前比较成熟的MoS2的图案化以及MoS2转移到柔性基底上工艺中,需要多个光刻图案化和转移工艺步骤。有鉴于此,西北工业大学黄维、王学文等报道结合墨水打印和热烧结技术,发展了大面积图案化MoS2的方法。
参考文献
Weiwei Li, Manzhang Xu, Jiuwei Gao, Xiaoshan Zhang, He Huang, Ruoqing Zhao, Xigang Zhu, Yabao Yang, Lei Luo, Mengdi Chen, Hongjia Ji, Lu Zheng, Xuewen Wang, Wei Huang, Large-scale Ultra-robust MoS2 Patterns Directly Synthesized on Polymer Substrate for Flexible Sensing Electronics, Adv. Mater. 2022
DOI: 10.1002/adma.202207447
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/adma.202207447