在单一材料中赋予多种共干燥特性的能力是制造业面临的巨大挑战。在设计用于定向自组装和纳米光刻的嵌段共聚物（BCP）时，通常需要平衡材料的正交特性以满足与加工、结构和缺陷性相关的要求。尽管迭代合成策略提供了部分具有良好性能的BCP，但仍然很难识别具有所有所需属性的材料。最近，来自芝加哥大学普里茨克分子工程学院的Paul F. Nealey等人设计了一个高通量合成和表征平台，用于发现和优化具有a结构域（B-random-C）架构的BCP，用于半导体制造中的光刻图案化。

文章要点：

1) 在研究过程中，首先是从母体BCP开始，通过使用硫醇-环氧树脂“点击”化学反应，研究者们合成了一个涵盖范围较大而具备复杂参数空间的BCP库；

2) 该BCP库可以高效地识别8–20 nm尺度范围内间距图案的特征尺寸及其相关BCP化学组成，这些嵌段域具有相似的表面能以用于定向自组装，并控制偏析强度以优化结构（偏析强度较高时有利）和缺陷性（偏析力较低时有利）。

参考资料：

Feng, H., Dolejsi, M., Zhu, N. et al. Optimized design of block copolymers with covarying properties for nanolithography. Nat. Mater. (2022).

DOI: 10.1038/s41563-022-01392-1

https://doi.org/10.1038/s41563-022-01392-1