氰基芳烃光催化剂因其对自由基阴离子介导的光氧化还原反应的优异催化性能而引起了人们的极大兴趣。然而，影响基于氰基芳烃的PC自由基阴离子(PC∙-)的形成和降解的因素仍然不充分了解。
近日，首尔大学Min Sang Kwon，IMDEA纳米科学研究所Reinhold Wannemacher，Johannes Gierschner研究了在广泛使用的光氧化还原介导的反应条件下，基于氰基芳烃的PC∙-的形成和降解。
文章要点
1）通过筛选各种基于氰基芳烃的PC∙-，阐明了有效生成具有足够激发态还原电位(Ered*)的PC∙-的策略。
2）为了彻底研究PC∙-在实际光氧化还原介导的反应中的行为，进行了还原性脱卤作为模型反应，并确定了PC∙-的主要光降解途径。聚碳酸酯的生成和光降解是共存的，这取决于电子转移(ET)到底物的速率，而光降解强烈依赖于对聚碳酸酯生成和光降解的理解， 研究人员证明了高还原性PC∙-的有效生成允许在低至0.001 mol%的PC∙-负载下高效光氧化还原催化芳基/烷基卤化物的脱卤，并具有高氧耐受性。
本工作为基于氰基芳烃的PC∙-在光氧化还原介导的反应中的反应提供了新的见解。
参考文献
Kwon, Y., Lee, J., Noh, Y. et al. Formation and degradation of strongly reducing cyanoarene-based radical anions towards efficient radical anion-mediated photoredox catalysis. Nat Commun 14, 92 (2023).
DOI：10.1038/s41467-022-35774-5
https://doi.org/10.1038/s41467-022-35774-5
