Angew:有机层修饰Cu电催化强酸性CO2还原制备C2+
纳米技术 纳米 2023-01-20

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在低pH值进行电化学CO2还原为高效利用CO2提供帮助,但是电化学CO2还原反应伴随着竞争性HER反应。近期人们发现,在大电流密度电催化反应,较高的碱金属离子浓度能够促进低pH电化学CO2还原。

有鉴于此,加州理工学院Jonas Peters、Theodor Agapie等报道有机膜修饰多晶Cu作为电催化剂,在低pH条件(H3PO4/KH2PO4)和较低的钾离子浓度([K+]=0.1 M)进行选择性CO2还原反应,能够以>70 %的法拉第效率生成C2+。这种修饰有机层的电极能够降低质子传输,阻碍HER竞争反应。这种修饰后的Cu催化剂在1.0 M H3PO4(pH 1)较低[K+]浓度(0.1 M)进行电催化仍实现比较高的C2+法拉第效率(45 %)。

本文要点

(1)

通过N-甲苯基吡啶鎓(tolyl-pyr, N-tolyl pyridinium)进行电化学沉积,在Cu表面修饰有机结构,能够在含有低K+离子浓度的强酸性H3PO4溶液保持较高的C2+法拉第效率。

(2)

当使用Ar/CO2作为反应物,在CO2的分压为0.8~0.2 atm,能够保证较高的C2+选择性,而且这项工作能够在较低的电流密度实现阻止HER反应,与以往报道不同。


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参考文献

Weixuan Nie, Gavin P Heim, Nicholas B Watkins, Theodor Agapie, Jonas Peters, Organic Additive-derived Films on Cu Electrodes Promote Electrochemical CO2 Reduction to C2+ Products Under Strongly Acidic Conditions, Angew. Chem. Int. Ed. 2023

DOI: 10.1002/anie.202216102

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/anie.202216102


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