结合原位实验和DFT理论计算，研究了锂离子电池LiMn₂O₄正极表面ALD沉积Al₂O₃的机理。Chen等人发现：1）Al(CH₃) ₃ 和Mn-O 键反应，并会部分还原表面Mn；2）Al₂O₃ ALD沉积会导致Al在界面空隙掺杂；3）亚单层Al₂O₃起到了稳定缺陷并条容量保持率的作用。

Lin Chen, Jeffrey P. Greeley, Jeffrey W. Elam et al. Mechanism for Al2O3 Atomic Layer Deposition on LiMn2O4 from In Situ Measurements and Ab Initio Calculations. Chem 2018.

DOI:https://doi.org/10.1016/j.chempr.2018.08.006

https://www.cell.com/chem/fulltext/S2451-9294(18)30358-9