K. Searles等人首先在脱羟基的SiO₂上通过Surface Grafting方法制备单位点Ga的Ga^III/SiO₂, （1.45 wt % Ga），进一步沉积[Pt(OSi(OtBu)₃)₂(COD)]并在H₂气氛下加热还原后得到Ga^δ+Pt⁰/SiO₂。原位XAS发现，部分Ga发生合金化形成Ga_xPt (0.5 < x < 0.9)，另一部分则仍以单位点形式分布于SiO₂表面。得益于其较高的金属分散度和表面Ga位点的弱酸性，该催化剂在丙烷脱氢反应中表现出远优于Pt，Ga和其他PtGa催化剂的催化活性。

Keith Searles, Christophe Copéret*, et al. Highly Productive Propane Dehydrogenation Catalyst Using Silica-Supported Ga–Pt Nanoparticles Generated from Single-Sites

J. Am. Chem. Soc., DOI: 10.1021/jacs.8b05378

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/jacs.8b05378