纳米级精确增材制造的印刷技术目前依赖于双光子光刻。尽管这种方法可以克服瑞利极限来实现纳米级结构，但对于大规模的实际应用来说，它的运行速度仍然太慢。

在这里，清华大学何向明教授，Hong Xu，浙江大学Cuifang Kuang展示了一种极其灵敏的氧化锆杂化-(2,4-双(三氯甲基)6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪)(ZrO2-BTMST)光刻胶系统，可以实现7.77 m s^–1的印刷速度，比传统聚合物光刻胶快三到五个数量级。

文章要点

1）研究人员构建了一种基于多边形激光扫描仪的双光子光刻机，其线性步进速度接近 10 m s^–1。使用 ZrO₂-BTMST 光刻胶，研究人员在约 33 分钟内制作了面积为 1 cm² 的方形光栅。此外，ZrO₂-BTMST光刻胶的化学成分极少，可实现高精度图案化，线宽小至38 nm。

2）表征辅助的计算表明，这种不同寻常的灵敏度源于 ZrO₂ 杂化物的有效光诱导极性变化。研究人员指出，有机-无机混合光刻胶的卓越灵敏度可能会带来可行的大规模增材制造纳米加工技术。

参考文献

Liu, T., Tao, P., Wang, X. et al. Ultrahigh-printing-speed photoresists for additive manufacturing. Nat. Nanotechnol. (2023).

DOI：10.1038/s41565-023-01517-w

https://doi.org/10.1038/s41565-023-01517-w