JACS:在Li+基SEI修饰的超薄石墨烯电极上实现高效K+插入
Yolerz Yolerz 2018-10-12

研究人员使用纳米结构少层超薄石墨烯(FLG)作为模型电极,探讨了SEI预处理对FLG电极K+插入的作用。用基于Li+的SEI调节FLG,很好地解析分级K+插入。通过CV观察到离散的分级型相变,确认为离子插层过程。通过原位拉曼证实了离子插入,TOFSIMS分析证实了在循环期间通过SEI和Li+/K+交换的K+渗透。这种简单的策略使得石墨材料上K+的插入速度比之前文献报道的至少快两个数量级,具有接近理论的K+存储。这项工作突出了SEI在控制碱离子插层机制方面的功能以及大面积FLG电极的多功能性。

 

Achieving Fast and Efficient K+ Intercalation on Ultrathin Graphene Electrodes Modified by a Li+ Based Solid-Electrolyte Interphase[J], J. Am. Chem. Soc.,2018.

DOI: 10.1021/jacs.8b08907

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/jacs.8b08907

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