用于光刻的光刻胶或用于太阳能电池的钙钛矿的旋涂薄膜是无定形或多晶的。近日，密苏里科学技术大学Jay A. Switzer研究团队表明，无机材料的外延薄膜，如CsPbBr3，PbI2，ZnO和NaCl可通过简单地将材料或前驱体的溶液旋涂到材料上沉积到各种单晶和单晶状基底上。旋涂薄膜的面外和面内取向由基底决定。在旋涂期间产生的薄的滞留过饱和溶液层促进了材料在单晶衬底上的异质成核，而不是在本体溶液中的均匀成核，并且有序的阴离子粘合剂可降低表面上成核的活化能。该方法可用于生产功能材料，例如无机半导体或沉积水溶性材料。
Kelso, M. V. et al. Spin coating epitaxial films
Science 2019
DOI:10.1126/science.aaw6184
文章链接：https://science.sciencemag.org/content/364/6436/166/tab-pdf
